重大突破！中国新一代光刻机模型亮相 关键零部件国产化率突破90%

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆。

SMEE介绍，本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控。

在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜。目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆，SSC800整体性能跻身行业第一梯队。关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产。

SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。